孙惠敏:三元单层W(SxSe1-x)2的激子增强行为及其可调光学带隙行为的研究 在 Nanoscale 上发表
发布人:   发布时间:2018-06-22   浏览次数:

        本研究采用简单的CVD方法,成功制备了高质量不同硫硒比例的三元单层W(SxSe1-x)2二维材料。实验发现在此三元二维材料中,不同的硫和硒比例可以有效调节其光学带隙。随着硫含量的增加,单层W(SxSe1-x)2薄膜的光学带隙逐渐增大。此外,硫含量增加会增强激子的激发行为,通过控制硫含量可以实现不同激子的相互转化。这些结果与第一性原理计算结果一致,从而为该二维材料在光电器件领域的应用提供了强有力的物理依据。本研究成果发表在Nanoscale


原文链接: http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2018/nr/c8nr01823e